第2回 政策委員会 知財・法務部会

 平成25年12月11日、第2回政策委員会知財・法務部会(部会長:西崎宏、JFEシステムズ(株) 代表取締役副社長)が、JISA会議室において開催された。会議は、同部会のメンバー16名に加え、特許庁から審査業務部意匠課本多誠一課長始め3名、経済産業省商務情報政策局情報処理振興課から臼田多郎係長の計20名の参加を得て行われた。会議の概要は以下のとおりである。

(1) JISAブックレッツ-8「システム開発を成功に導く法務・契約ハンドブック
-プロジェクトマネジメントの基礎知識-」の見直しについて

 当日は、上記ブックレッツの改訂の趣旨や編集方針などについて事務局が報告し、具体的な改訂箇所について、部会メンバーから一定期間、意見を募集することとなった。

 また、上記ブックレッツの利用促進の観点から、システム開発等に係る法務・契約上の事柄について、ベンダの法務担当者が社員からよく受ける質問と回答を用意することとなり、これについても部会メンバーから一定期間、意見を募集することとなった。

(2) 意匠法による画像デザインの保護拡大について

 特許庁審査業務部意匠課本多誠一課長他から、産業構造審議会知的財産分科会意匠制度小委員会の動向等について、11月22日に行われた第1回意匠制度小委員会の資料をもとに報告が行われ、その後、意見交換を実施した。

 部会メンバーから出された意見は概ね以下のとおりである。

  • 意匠制度小委員会の資料「画像デザイン保護拡充の方向性について」の中で、産業界のニーズについて、一般財団法人知的財産研究所『平成23年度 特許庁産業財産権制度問題調査研究報告書 デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究報告書』の内容が引用されているが、産業界のニーズの有無についてはより丁寧に汲み上げる必要がある。
  • 「自己の実施する意匠がそもそもクリアランスを行う必要のないありふれたものであるかを判断するためには、特許庁において審査で利用している公知資料を一般に公開し、事業者に判断材料を提供することがより望ましいが、資料の一般公開については著作権法上の制約があるため、この点については引き続き文化庁と相談しつつ採り得る対応を行っていく」と資料に記載されているが、事業者のクリアランス負担の軽減に向け、文化庁との調整はどの程度進められているのか。
  • 法改正により産業競争力が削がれることのないよう、慎重な検討が必要である。

(3) その他情報交換

 部会メンバーからの提案を受け、情報漏えい保険(個人情報漏えい保険含む)及び業務賠償保険(IT賠償保険)の加入・検討状況について、メンバー間で情報共有を図った。

 

○参考

(茂木)

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